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摘要:
随着当代电子封装技术的飞速发展以及无铅化潮流的兴起,倒装芯片中凸点(Solder Bump)与凸点下金属层(UBM)之间的反应的研究成为当前研究的热点.综述了UBM与凸点反应研究的最新进展,总结了钎焊过程中的界面反应和元素扩散行为,分析了界面金属间化合物层(IMC)在长时间回流焊接过程中剥落的原因,进一步指出了凸点与UBM反应研究的趋势.
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文献信息
篇名 倒装芯片中凸点与凸点下金属层反应的研究现状
来源期刊 材料导报 学科 工学
关键词 凸点凸点下金属层(UBM) 金属间化合物(IMC) 剥落
年,卷(期) 2005,(9) 所属期刊栏目 材料综述
研究方向 页码范围 16-19
页数 4页 分类号 TG425
字数 4506字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1005-023X.2005.09.005
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 马海涛 大连理工大学材料工程系 39 312 11.0 16.0
2 王来 大连理工大学材料工程系 76 914 15.0 27.0
3 赵杰 大连理工大学材料工程系 171 1184 17.0 27.0
4 于大全 大连理工大学材料工程系 10 354 8.0 10.0
5 何大鹏 大连理工大学材料工程系 2 40 2.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
凸点凸点下金属层(UBM)
金属间化合物(IMC)
剥落
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
材料导报
半月刊
1005-023X
50-1078/TB
大16开
重庆市渝北区洪湖西路18号
78-93
1987
chi
出版文献量(篇)
16557
总下载数(次)
86
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