光刻机掩模台宏动定位系统的控制器设计

• 作者: 吴运新 王永华 邓习树
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 干扰观测器 光刻机 掩模台 控制系统
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 22-27
• 页数: 6页
• 分类号: TH161+.6
• 字数: 3059字
• 语种: 中文

摘要

为给步进扫描光刻机的设计研究提供理论指导,解决光刻机掩膜台宏动平台的控制问题,采用直线电机设计了高速、高精密步进扫描光刻机的掩模台模拟宏动定位系统,并建立了整个直线运动平台的数学模型.根据该系统的特点和模型,还设计了一种不完全微分PID+干扰观测器的控制方式.运用MATLAB软件进行仿真,结果表明,在具有相同的扰动下,仅采用普通PID控制,系统跟踪误差在±0.025 mm范围内变化,而采用该控制方式,系统跟踪误差在±0.015 mm的范围内变化,后者比前者具有更好的控制性能,因而可以使系统得到较好的抗干扰能力、跟踪性能和控制效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邓习树	中南大学机电工程学院	17	186	9.0	13.0
2	吴运新	中南大学机电工程学院	184	1824	22.0	31.0
3	王永华	中南大学机电工程学院	5	31	4.0	5.0