离子束辅助沉积对TiAlSiN薄膜性能的影响

• 作者: 曾鹏 汝强 秦聪祥 胡社军
• 来源期刊: 钛工业进展
• 学科: 工学
• 关键词: 离子束辅助沉积 TiAlSiN 电弧离子镀
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 材料研究与开发
• 页码范围: 25-28
• 页数: 4页
• 分类号: TQ134
• 字数: 2312字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-9964.2006.02.007

摘要

分别利用真空电弧沉积技术与等离子体辅助真空电弧沉积技术在不锈钢片、高速钢片和单晶硅片上沉积TiAlSiN多元薄膜,通过X射线衍射和扫描电镜对采用两种方法制备的薄膜物相及表面形貌进行了分析比较,测定了高速钢片上薄膜的显微硬度,进行了耐磨性实验.结果表明,采用离子束辅助沉积制备的薄膜,有(200)面的择优取向,薄膜的表面形貌得到改善,硬度和耐磨性提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曾鹏	广东工业大学材料与能源学院	64	572	13.0	20.0
2	胡社军	广东工业大学材料与能源学院	66	842	14.0	26.0
3	汝强	广东工业大学材料与能源学院	10	337	7.0	10.0
4	秦聪祥	广东工业大学材料与能源学院	2	19	2.0	2.0