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RF-PECVD法制备大面积类金刚石薄膜性能的研究
RF-PECVD法制备大面积类金刚石薄膜性能的研究
作者:
李钱陶
杨长城
熊长新
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
类金刚石膜
均匀性
红外
射频等离子体增强化学相沉积法
摘要:
采用RF-PECVD法在锗、硅红外光学窗口上制备了大面积(基底直径φ=150~250mm)类金刚石薄膜.采用拉曼光谱分析了大面积DLC膜的结构组成,对RF-PECVD法制备的大面积DLC膜的均匀性、红外光学性能、机械力学性能以及其抗恶劣环境的能力进行了检测和分析.膜层厚度均匀性在3%以内.锗、硅红外窗口双面镀制DLC膜后,极值透过率分别达92%和96%以上,可显著提高红外光学窗口的显微硬度.膜层具有极强的抗盐雾、耐海水腐蚀和抗摩擦的能力.
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文献信息
篇名
RF-PECVD法制备大面积类金刚石薄膜性能的研究
来源期刊
光学与光电技术
学科
物理学
关键词
类金刚石膜
均匀性
红外
射频等离子体增强化学相沉积法
年,卷(期)
2006,(4)
所属期刊栏目
材料与器件
研究方向
页码范围
19-21,39
页数
4页
分类号
O484.4
字数
1943字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1672-3392.2006.04.006
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
熊长新
11
60
4.0
7.0
2
李钱陶
9
49
4.0
6.0
3
杨长城
13
237
8.0
13.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
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参考文献(1)
二级参考文献(0)
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2006(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
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二级引证文献(8)
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引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
类金刚石膜
均匀性
红外
射频等离子体增强化学相沉积法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学与光电技术
主办单位:
华中光电技术研究所
武汉光电国家实验室
湖北省光学学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1672-3392
CN:
42-1696/O3
开本:
大16开
出版地:
武汉市阳光大道717号
邮发代号:
38-335
创刊时间:
2003
语种:
chi
出版文献量(篇)
2142
总下载数(次)
3
总被引数(次)
9791
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