原子层沉积技术及应用发展概况

• 作者: 于继荣 刘雄英 范艺 黄光周
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 原子层沉积 自限制 化学气相沉积 物理气相沉积
• 年，卷（期）: 2006,（z1）
• 所属期刊栏目: 综述评论
• 页码范围: 146-153,158
• 页数: 9页
• 分类号: O484.4
• 字数: 6797字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.z1.036

摘要

首先回顾了原子层沉积(ALD)发展历史,介绍了ALD的基本工艺和ALD薄膜具有的优良特性,并与传统的薄膜制备工艺进行了对比研究.重点阐述了ALD在微电子技术、微电子机械系统以及光学工程中的几个应用研究现状.分析了ALD目前存在的问题,并对ALD未来的发展进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄光周	华南理工大学电子与信息学院	26	189	9.0	13.0
2	于继荣	华南理工大学电子与信息学院	16	84	5.0	8.0
3	刘雄英	华南理工大学电子与信息学院	33	354	11.0	18.0
4	范艺	华南理工大学电子与信息学院	5	71	4.0	5.0