MgxZn1-xO薄膜的折射率及三阶非线性研究

• 作者: 吴惠桢 陈乃波
• 来源期刊: 光电子·激光
• 学科: 物理学
• 关键词: MgxZn1-xO薄膜 折射率 三阶非线性极化率 光克尔效应(OKE)
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 光电子器件和系统
• 页码范围: 549-553
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 4161字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-0086.2006.05.011

摘要

利用电子束蒸发反应沉积技术,在蓝宝石和硅化玻璃衬底上生长得到MgxZn1-xO薄膜.立方相MgxZn1-xO(0.55≤x≤1.00)薄膜的折射率通过透射光谱技术和Manifacier方法计算得到.与六方相MgxZn1-xO薄膜相似,在400～800 nm波长范围内,立方相MgxZn1-xO薄膜的折射率色散关系遵循最小平方根的一阶Sellmeier色散方程.不同组分的MgxZn1-xO薄膜的三阶非线性极化率采用光克尔效应(OKE)技术测试获得.六方-立方双晶相结构的Mg0.37Zn0.63O薄膜具有最大的三阶非线性极化率,其原因可归功于薄膜微结构中六方和立方晶相分离所导致的晶粒散射.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴惠桢	浙江大学物理系	37	219	9.0	12.0
2	陈乃波	浙江工业大学之江学院	8	28	3.0	5.0