脉冲腐蚀法制备多孔硅及其光学特性研究

• 作者: 乔淑欣 张冉 李志全 蔡亚楠
• 来源期刊: 大气与环境光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 多孔硅 脉冲腐蚀法 原子力显微镜 表面形貌 光学常数
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 光电技术
• 页码范围: 151-154
• 页数: 4页
• 分类号: TN304|O435.1
• 字数: 2223字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-6141.2006.02.016

摘要

Labview软件控制腐蚀条件,用脉冲电化学腐蚀法制备多孔硅薄膜,其表面形貌用原子力显微镜观察并分析.用可见-紫外分光光度仪测量其反射谱,通过计算得出各种制备条件下,多孔硅薄膜的其它光学参数,即有效折射率neff,吸收系数α,有效介电常数的实部εer和虚部εei,消光系数K.研究了入射光波长和孔隙率对这些光学常数的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李志全	燕山大学仪器科学与工程系	201	1342	17.0	24.0
2	乔淑欣	燕山大学仪器科学与工程系	5	24	3.0	4.0
3	蔡亚楠	燕山大学仪器科学与工程系	5	24	3.0	4.0
4	张冉	燕山大学仪器科学与工程系	6	40	4.0	6.0