不同退火温度下ZnO薄膜表面形貌的演变及粗化机制

• 作者: 刘莎 史雅琴
• 来源期刊: 大连海事大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 磁控溅射 表面形貌 功率谱密度 分形维数
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 页码范围: 101-105
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2861字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7736.2006.02.028

摘要

采用磁控溅射方法在Si (001)制备ZnO薄膜,利用原子力显微镜对不同退火温度的ZnO薄膜表面形貌进行表征.结果表明:薄膜的微观形貌、表面粗糙度和分形维数取决于退火温度的变化.在退火温度从室温上升到1000℃过程中,薄膜表面粗糙度逐渐降低,700℃降至最小,而后又迅速粗糙.探讨了不同退火温度下薄膜表面的粗糙机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘莎	大连海事大学机电与材料工程学院	21	142	6.0	11.0
2	史雅琴	大连海事大学机电与材料工程学院	23	211	7.0	14.0