四氟化硅

• 来源期刊: 无机化工信息
• 学科: 工学
• 关键词: 四氟化硅 半导体行业 高比表面积 太阳能电池 人造大理石 二氧化硅 高温火焰 石英玻璃
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 页码范围: 2-4
• 页数: 3页
• 分类号: TQ219

摘要

1 SiF4的应用及经济概况 四氟化硅在电子和半导体行业中主要用于氮化硅、硅化钽等的蚀刻剂、P型掺杂剂、外延沉积扩散硅源等．还可用于制备电子级硅烷或硅。四氟化硅还可用作光导纤维用高纯石英玻璃的原料．它在高温火焰中水解可产生具有高比表面积的热沉二氧化硅。此外，四氟化硅还广泛用在制备太阳能电池、氟硅酸和氟化铝、化学分析、氟化剂．油井钻探、镁合金浇铸、催化剂、蒸熏剂、水泥及人造大理石的硬化剂等。在预制水泥中使用四氟化硅后．可增进其耐蚀性和耐磨性．改善其孔隙度和增加压缩强度。