射频溅射法和电弧离子镀法制备的纳米TiO2薄膜性能比较

• 作者: 叶勤 吴奎
• 来源期刊: 暨南大学学报（自然科学与医学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频磁控溅射 电弧离子镀 TiO2薄膜 亲水性 光催化
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 页码范围: 393-397
• 页数: 5页
• 分类号: O47|O48
• 字数: 2642字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-9965.2006.03.012

摘要

采用射频磁控溅射法和电弧离子镀法制备了纳米TiO2薄膜,并利用XRD、UV-VIS、AFM及通过亲水性和光催化实验对两种方法制备的TiO2薄膜进行了对比表征.结果表明,磁控溅射法的薄膜生长速率只有电弧离子镀法的1/30;前者仅需较低的退火温度就能形成完善的锐钛矿结构;虽然两者有相近的紫外吸收边,但是前者有较大的紫外吸收;磁控溅射法制备的TiO2薄膜表面呈现针状晶结构和具有较大的比表面积;在暗室中保存5 h后,磁控溅射法制备的TiO2膜水的接触角恢复到1°,而后者达到20°;对于光催化降解苯酚,前者有较大的降解率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶勤	暨南大学物理系	37	351	11.0	16.0
2	吴奎	暨南大学物理系	7	58	5.0	7.0