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集成电路技术的发展趋势研究
集成电路技术
CMOS器件
系统集成芯片
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集成电路版图(layout)设计方法与实例
版图设计
MOS
面积
设计规则
CMOS集成电路IDD频谱图形测试理论与实践
互补金属氧化物半导体集成电路
电源电流
缺陷
开关电流
频谱图形
测试向量
如何保证集成电路的测试质量
集成电路测试
硬件
软件
结果分析
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 硅与非硅集成电路的未来
来源期刊 电子产品世界 学科 工学
关键词
年,卷(期) 2006,(1) 所属期刊栏目 专题 电子技术展望
研究方向 页码范围 64
页数 1页 分类号 TN7
字数 1354字 语种 中文
DOI
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期刊影响力
电子产品世界
月刊
1005-5517
11-3374/TN
大16开
北京市复兴路15号138室
82-552
1993
chi
出版文献量(篇)
11765
总下载数(次)
14
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