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紫外光截止镀膜玻璃的射频磁控溅射法制备及表征
紫外光截止镀膜玻璃的射频磁控溅射法制备及表征
作者:
倪佳苗
姜宏
张乃芝
王桂荣
赵修建
赵青南
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
射频溅射
玻璃基TiOx-CeO2薄膜
紫外光截止镀膜玻璃
基片温度
摘要:
制备了摩尔比为l:1的TiO2和CeO2陶瓷靶材.采用射频磁控溅射法在O2和Ar比例为5:95的混合气体中制备了玻璃基TiO2-CeO2薄膜.溅射过程中,工作气压保持在1.8 Pa不变,玻璃基片温度从室温(RT)~220℃之间变化.用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和紫外-可见光谱仪研究了薄膜的物相结构、表面组成、表面形貌和镀膜试样的紫外-可见光透过率.结果表明,薄膜表面结构平滑、致密,呈微小晶粒结构,薄膜中Ti和Ce仅以Ti4+和Ce4+的形式存在;随着基片温度升高,薄膜中的细小晶粒略有长大;TiO2-CeO2镀膜玻璃可以有效地截止紫外线.
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内容分析
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文献信息
篇名
紫外光截止镀膜玻璃的射频磁控溅射法制备及表征
来源期刊
稀有金属材料与工程
学科
化学
关键词
射频溅射
玻璃基TiOx-CeO2薄膜
紫外光截止镀膜玻璃
基片温度
年,卷(期)
2006,(1)
所属期刊栏目
材料工艺
研究方向
页码范围
142-145
页数
4页
分类号
O647
字数
2725字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1002-185X.2006.01.036
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
赵修建
武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室
220
2735
25.0
43.0
2
倪佳苗
武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室
6
40
4.0
6.0
3
姜宏
14
70
5.0
8.0
4
王桂荣
7
28
3.0
5.0
5
赵青南
武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室
45
423
12.0
19.0
6
张乃芝
武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室
1
6
1.0
1.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
(0)
参考文献
(0)
节点文献
引证文献
(6)
同被引文献
(8)
二级引证文献
(14)
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参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
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引证文献(3)
二级引证文献(0)
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引证文献(0)
二级引证文献(1)
2009(2)
引证文献(1)
二级引证文献(1)
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引证文献(0)
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2011(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
2013(3)
引证文献(1)
二级引证文献(2)
2014(1)
引证文献(0)
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2016(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
2017(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2019(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
2020(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
射频溅射
玻璃基TiOx-CeO2薄膜
紫外光截止镀膜玻璃
基片温度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
稀有金属材料与工程
主办单位:
中国有色金属学会
中国材料研究学会
西北有色金属研究院
出版周期:
月刊
ISSN:
1002-185X
CN:
61-1154/TG
开本:
大16开
出版地:
西安市51号信箱
邮发代号:
52-172
创刊时间:
1970
语种:
chi
出版文献量(篇)
12492
总下载数(次)
15
总被引数(次)
83844
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