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摘要:
制备了摩尔比为l:1的TiO2和CeO2陶瓷靶材.采用射频磁控溅射法在O2和Ar比例为5:95的混合气体中制备了玻璃基TiO2-CeO2薄膜.溅射过程中,工作气压保持在1.8 Pa不变,玻璃基片温度从室温(RT)~220℃之间变化.用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和紫外-可见光谱仪研究了薄膜的物相结构、表面组成、表面形貌和镀膜试样的紫外-可见光透过率.结果表明,薄膜表面结构平滑、致密,呈微小晶粒结构,薄膜中Ti和Ce仅以Ti4+和Ce4+的形式存在;随着基片温度升高,薄膜中的细小晶粒略有长大;TiO2-CeO2镀膜玻璃可以有效地截止紫外线.
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文献信息
篇名 紫外光截止镀膜玻璃的射频磁控溅射法制备及表征
来源期刊 稀有金属材料与工程 学科 化学
关键词 射频溅射 玻璃基TiOx-CeO2薄膜 紫外光截止镀膜玻璃 基片温度
年,卷(期) 2006,(1) 所属期刊栏目 材料工艺
研究方向 页码范围 142-145
页数 4页 分类号 O647
字数 2725字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1002-185X.2006.01.036
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 赵修建 武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室 220 2735 25.0 43.0
2 倪佳苗 武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室 6 40 4.0 6.0
3 姜宏 14 70 5.0 8.0
4 王桂荣 7 28 3.0 5.0
5 赵青南 武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室 45 423 12.0 19.0
6 张乃芝 武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室 1 6 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
射频溅射
玻璃基TiOx-CeO2薄膜
紫外光截止镀膜玻璃
基片温度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
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期刊影响力
稀有金属材料与工程
月刊
1002-185X
61-1154/TG
大16开
西安市51号信箱
52-172
1970
chi
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