闭磁场非平衡磁控溅射在光学薄膜中的应用

• 作者: 卜轶坤 贾克辉 陈楠
• 来源期刊: 光机电信息
• 学科: 工学
• 关键词: 闭磁场 光学薄膜 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2007,（9）
• 所属期刊栏目: 研究生论坛
• 页码范围: 34-37
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 1974字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-1180.2007.09.002

摘要

介绍了一种制备高质量光学薄膜的新型闭磁场磁控溅射技术.该技术具有高束流密度和低内应力,可以在高沉积速率条件下制备性能极佳的精密光学薄膜.采用精密的单轴圆鼓基板系统,可显著提高批量镀膜的能力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卜轶坤	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	17	186	7.0	13.0
2	陈楠		3	0	0.0	0.0
3	贾克辉		1	0	0.0	0.0