溅射功率和气压对CdTe薄膜结晶性的影响

• 作者: 姬荣斌 孔令德 张曙 杨宇 王国宁
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 CdTe薄膜 功率 气压 结晶性
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 专题论文
• 页码范围: 715-719
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3818字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1625.2007.04.020

摘要

用射频磁控溅射在普通玻璃衬底上制备CdTe薄膜.采用XRD对制备出的薄膜进行分析研究;并讨论了溅射气压、溅射功率对薄膜结晶性的影响.进一步研究表明:溅射气压低时溅射功率对CdTe薄膜结晶性的影响程度比溅射气压高时要大;溅射功率低时溅射气压对CdTe薄膜结晶性的影响程度比溅射功率高时要小.并对造成上述结果的机理进行了初步的理论探讨.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨宇	云南大学材料科学与工程系	101	377	9.0	12.0
2	姬荣斌		50	200	7.0	10.0
3	孔令德		12	37	4.0	4.0
4	张曙	云南大学材料科学与工程系	10	30	3.0	5.0
5	王国宁	云南大学材料科学与工程系	2	8	2.0	2.0