热处理对NiP/CoNiP薄膜织构和磁性能的影响

• 作者: 张巧红 郑鹉 陈庆永 马亮
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 电子技术 薄膜 热处理 磁性能 结构
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 45-48
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 4181字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2007.06.015

摘要

用化学镀的方法制取了NiP/CoNiP薄膜并将样品进行真空热处理.用XRD、VSM、EDS等测试手段分析了热处理影响薄膜结构和磁性能变化的原因.结果发现,热处理使薄膜的结构发生了由α-Co向β-Co的同素异构转变;经热处理后晶粒尺寸长大到30 nm左右;经350 ℃热处理后薄膜的矫顽力升高到5.57×104 A/m;经400 ℃热处理后矩形比达到0.28.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑鹉	首都师范大学物理系	55	134	7.0	9.0
2	陈庆永	首都师范大学物理系	5	8	2.0	2.0
3	马亮	首都师范大学化学系	3	10	2.0	3.0
4	张巧红	首都师范大学物理系	2	5	1.0	2.0