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SiGe电荷注入晶体管的直流特性模型
SiGe电荷注入晶体管的直流特性模型
作者:
宣荣喜
张鹤鸣
戴显英
胡辉勇
舒斌
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
SiGe/Si异质结
电荷注入晶体管
二维空穴气
隧道效应
摘要:
为了能直观地体现SiGe/Si电荷注入晶体管的收集极电流与漏源电压的关系,利用输入端SiGe/Si量子阱中二维空穴气的隧道模型,建立起此类器件的输入输出数学模型,并利用MATLAB软件对所建模型进行了模拟,结果显示在漏源电压约为1.5 V时,漏电流出现较强的负微分电阻效应,与文献报道结果符合.
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文献信息
篇名
SiGe电荷注入晶体管的直流特性模型
来源期刊
物理学报
学科
工学
关键词
SiGe/Si异质结
电荷注入晶体管
二维空穴气
隧道效应
年,卷(期)
2007,(2)
所属期刊栏目
凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向
页码范围
1105-1109
页数
5页
分类号
TN3
字数
4033字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1000-3290.2007.02.080
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
戴显英
西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室
55
329
10.0
15.0
2
胡辉勇
西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室
64
367
10.0
15.0
3
张鹤鸣
西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室
102
510
12.0
16.0
4
宣荣喜
西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室
22
172
8.0
12.0
5
舒斌
西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室
14
109
8.0
10.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
(0)
参考文献
(0)
节点文献
引证文献
(4)
同被引文献
(0)
二级引证文献
(0)
2007(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
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2013(2)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
2014(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
SiGe/Si异质结
电荷注入晶体管
二维空穴气
隧道效应
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
相关基金
武器装备预研基金
英文译名:
官方网址:
项目类型:
武器装备预研基金重点基金项目和武器装备预研基金一般基金项目
学科类型:
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