制备参数和后处理对ZnO薄膜光学性质的影响

• 作者: 张立春 徐言东 李清山 梁德春
• 来源期刊: 激光杂志
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光沉积 制备参数 退火 晶格弛豫
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 激光系统与应用
• 页码范围: 74-76
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1|O484.4
• 字数: 2456字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0253-2743.2008.05.032

摘要

采用脉冲激光沉积技术在不同生长气氛氧压(10-3pa、10-2Pa、10-1Pa、IPa、10Pa)和生长计底温度(250.600℃)下制备了高度c轴取向的ZnO薄膜.光致发光(PL)光谱表明,氧压和衬底温度对ZnO的光学性质有重要影响制备紫外(UV)发射强的ZnO薄膜,要综合考虑氧压和衬底温度两个参数,衬底温度升高,氧气氛压强要相应升高.进一步研究表明,在化学配比火衡的情况下,升高村底温度和退火会在ZnO中产生缺陷和杂质束缚电子态,束缚电子态引起的晶格弛豫使局域电子态发生多声子无辐射跃迁,ZnO深能级发射由辐射复合变为无辐射复合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张立春		15	84	4.0	9.0
2	李清山	曲阜师范大学物理工程学院	57	249	9.0	12.0
6	梁德春	曲阜师范大学物理工程学院	3	7	2.0	2.0
7	徐言东	曲阜师范大学物理工程学院	5	17	3.0	4.0