退火过程对c轴择优取向的ZnO薄膜光学性质的影响

• 作者: 余庆选 傅竹西 廖源 张五堂 谢学武
• 来源期刊: 量子电子学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 材料 溶胶凝胶法 ZnO薄膜 c轴择优取向 退火
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 激光应用
• 页码范围: 221-226
• 页数: 6页
• 分类号: O484.41
• 字数: 2932字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-5461.2010.02.017

摘要

利用溶胶凝胶法在石英衬底上采用旋涂法制备出ZnO薄膜,通过X射线衍射仪发现不同的退火温度对ZnO薄膜的择优取向有很大影响;通过紫外可见分光光度计和室温发光谱可以看出,制备的薄膜有很好的光学透过性和很强的紫外发光特性,而不同的退火温度对其光学性质有很大的影响.实验发现采用此种方法在650℃左右退火是一个合适的退火温度,结构特性和光学性质都相对较好;采用热分析方法可知ZnO将在375℃左右从非晶转向结晶状态,因而在常规ZnO薄膜制备方法中增加一步500℃的热处理将有助于提高ZnO薄膜的结晶质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	廖源	中国科学技术大学物理系	12	95	5.0	9.0
2	张五堂	中国科学技术大学物理系	2	6	2.0	2.0
3	余庆选	中国科学技术大学物理系	7	39	4.0	6.0
4	傅竹西	中国科学技术大学物理系	53	808	17.0	27.0
5	谢学武	中国科学技术大学物理系	1	2	1.0	1.0