氮气流量对UBMS制备TiN薄膜结构和力学性能的影响

• 作者: 弥谦 惠迎雪 王庆喜
• 来源期刊: 材料导报：纳米与新材料专辑
• 学科: 工学
• 关键词: 非平衡磁控溅射 氮化钛薄膜 氮气流量
• 年，卷（期）: cldbnmyxclzj_2008,（1）
• 页码范围: 66-68
• 页数: 3页
• 分类号: TQ021.3

摘要

利用非平衡磁控溅射离子镀技术研究了不同氮气流量对TiN薄膜结构、摩擦性能、附着力及显微硬度的影响。研究结果表明：N2流量对TiN薄膜的择优取向有很大影响，N2流量较小时，TiN薄膜显示出{111}择优取向生长趋势，在N2流量为15sccm条件下沉积的TiN薄膜的（111）衍射峰强度最强，与之对应的薄膜硬度和膜基结合强度最高，耐磨性能也最好；N2流量的大小对TiN薄膜的沉积速率和摩擦系数影响显著，并随N2流量增加都有较明显的下降趋势。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	弥谦	西安工业大学光电工程学院	60	260	9.0	14.0
2	王庆喜	西安工业大学光电工程学院	3	6	1.0	2.0
3	惠迎雪	西安工业大学光电工程学院	38	186	6.0	12.0