反应磁控溅射TiN/AlON纳米多层膜的微结构与显微硬度

• 作者: 吴昕蔚 孔明 李戈扬 黄碧龙
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 物理学
• 关键词: TiN/AlON纳米多层膜 外延生长 非晶晶化 显微硬度 反应磁控溅射
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 页码范围: 193-197
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 4515字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2008.02.013

摘要

采用Ti靶和Al2O3靶在Ar、 N2混合气氛中进行反应磁控溅射的方法,制备了一系列不同AlON层厚度的TiN/AlON纳米多层膜,利用EDS、XRD、HRTEM和微力学探针研究了AlON的形成条件以及AlON调制层厚的改变对多层膜生长方式和显微硬度的影响.结果表明,在Ar、N2混合气氛中对Al2O3进行溅射,N原子会部分取代Al2O3中的O原子,形成非晶态的AlON化合物.在TiN/AION纳米多层膜中,由于TiN晶体层的模板效应,AlON层在厚度小于0.6 nm时被强制晶化并与TiN形成共格外延生长结构,多层膜显示出最高硬度达40.5 Gpa的超硬效应;进一步增加AlON的层厚,其生长模式由晶态向非晶态转变,破坏了多层膜的共格外延生长结构,多层膜的硬度随之降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孔明	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	19	194	8.0	13.0
2	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
3	黄碧龙	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	4	17	3.0	4.0
4	吴昕蔚	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	2	9	2.0	2.0