Si基片上Au膜真空紫外反射特性研究

• 作者: 付绍军 刘颍 周洪军 干蜀毅 徐向东 洪义麟 霍同林
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 真空紫外反射镜 真空紫外反射 膜真空紫外反射率 Au膜 Si基片 离子束溅射
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 51-54
• 页数: 4页
• 分类号: TB133
• 字数: 3194字
• 语种: 中文

摘要

对Si片上Au膜在真空紫外波段的反射特性进行了系统的研究.采用离子束溅射,选择不同的镀膜参数,在经不同前期清洗方法处理过的Si片上,镀制了各种厚度的Au膜.利用科大国家同步辐射实验室的反射率计,对Au膜在真空紫外较宽波长范围内的反射率进行了连续测量.测试结果表明:Si片上Au膜厚度和辅助离子源的使用方式对Au膜反射率有重大影响,而镀前基片表面清洗工艺等对反射率影响不显著.采用辅助离子沉积或镀前离子清洗,可提高Au膜反射率;但离子清洗和辅助离子沉积同时使用会给反射率带来显著的不利影响.膜厚在30 nm左右,55°入射角时反射率最高,可高达40%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	干蜀毅	中国科技大学国家同步辐射实验室	59	703	12.0	25.0
5	徐向东	中国科技大学国家同步辐射实验室	6	57	4.0	6.0
6	洪义麟	中国科技大学国家同步辐射实验室	6	57	4.0	6.0
7	刘颍	中国科技大学国家同步辐射实验室	4	37	3.0	4.0
8	付绍军	中国科技大学国家同步辐射实验室	10	74	4.0	8.0
9	霍同林	中国科技大学国家同步辐射实验室	7	17	3.0	3.0
10	周洪军	中国科技大学国家同步辐射实验室	6	19	2.0	4.0