衬底位置对大面积CVD金刚石薄膜质量的影响

• 作者: 张雷 王丽军 王小平 王隆洋
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石薄膜 衬底位置 等离子体球
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜技术
• 页码范围: 39-42
• 页数: 4页
• 分类号: O484|O59|TN305|TN104
• 字数: 3191字
• 语种: 中文

摘要

采用石英钟罩式微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)设备制备了大面积金刚石薄膜,结合X射线衍射谱(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和激光喇曼(Raman)谱等实验手段,较系统地研究了衬底位置对金刚石薄膜质量的影响规律.结果表明,在等离子体球内部的空间范围内,距等离子体球中心垂直距离越远衬底上所沉积的金刚石薄膜质量越好;通过调整衬底位置,可明显改善其上不同区域所沉积的金刚石薄膜质量,最后在等离子体球边缘附近可沉积出晶粒均匀一致几乎不舍非晶碳的大面积高质量金刚石薄膜.此研究为进一步改善大面积金刚石薄膜均匀性和薄膜质量提供了一种实用的途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张雷	上海理工大学理学院	58	325	11.0	14.0
2	王小平	上海理工大学理学院	34	376	7.0	19.0
3	王丽军	上海理工大学理学院	34	376	7.0	19.0
4	王隆洋	上海理工大学理学院	7	54	3.0	7.0