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摘要:
通过射频磁控溅射技术在Si(111)衬底上制备了未掺杂和镧、钕掺杂ZnO薄膜.XRD分析表明,ZnO薄膜具有c轴择优生长,镧、钕掺杂ZnO薄膜为自由生长的纳米多晶薄膜.用AFM观测薄膜的表面形貌,镧、钕掺杂ZnO薄膜表面形貌粗糙.
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文献信息
篇名 RF溅射稀土(La,Nd)掺杂ZnO薄膜的结构
来源期刊 理化检验-物理分册 学科 工学
关键词 稀土掺杂 ZnO薄膜 X射线衍射分析 原子力显微镜 射频磁控溅射
年,卷(期) 2008,(4) 所属期刊栏目 试验与研究
研究方向 页码范围 172-174,179
页数 4页 分类号 O484|TN304
字数 3341字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-4012.2008.04.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈长乐 西北工业大学应用物理系 144 734 13.0 20.0
2 潘峰 西北工业大学应用物理系 11 35 4.0 5.0
4 文军 西北工业大学应用物理系 39 136 7.0 9.0
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研究主题发展历程
节点文献
稀土掺杂
ZnO薄膜
X射线衍射分析
原子力显微镜
射频磁控溅射
研究起点
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研究分支
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月刊
1001-4012
31-1338/TB
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上海市邯郸路99号
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1963
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