PZT厚膜的气雾化湿法减薄制备技术

• 作者: 冯艳 吴亚雷 杨景超 褚家如 许晓慧
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: PZT厚膜 气雾化湿法减薄 平均刻蚀速率
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 精密加工
• 页码范围: 59-63
• 页数: 5页
• 分类号: TN16
• 字数: 4038字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6030.2008.01.013

摘要

锆钛酸铅(PZT)厚膜的制备技术是制作基于PZT厚膜的微传感器和微驱动器的关键技术之一.传统的制备方法难以兼顾厚膜制备中对厚度、性能、工艺复杂度以及成本等方面的要求,因此,提出了一种新的利用气雾化湿法减薄体材料制备PZT厚膜的技术.该技术结合传统的PZT湿法化学刻蚀方法和刻蚀雾滴的物理轰击效应,在反应中实时去除化学反应残留物,在减薄前后样品厚度均匀性几乎不变的情况下,平均刻蚀速率可达3.3μm/min,且工艺过程简单,成本低廉.实验结果表明,用该技术制备的PZT厚膜可满足微机电系统(MEMS)领域中微传感器和微致动器对于厚膜具备较高灵敏度和较大驱动能力的性能要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	褚家如	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	76	566	14.0	19.0
2	吴亚雷	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	12	53	5.0	6.0
3	杨景超	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	7	35	4.0	5.0
4	许晓慧	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	13	75	6.0	8.0
5	冯艳	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	5	28	3.0	5.0