缓冲层对银薄膜光电特性的影响

• 作者: 吕晶 吴小春 林丽梅 林少颜 林永钟 赖发春
• 来源期刊: 福建师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 银薄膜 缓冲层 光电学性质
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 页码范围: 43-46,49
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3324字
• 语种: 中文

摘要

研究铜、铝作为银薄膜的缓冲层对银薄膜的光电学性质的影响.利用热蒸发技术在BK-7玻璃基底上沉积Ag(220 nm) /Al(20 nm)和Ag(220 nm)/Cu(20 nm)薄膜,沉积薄膜在温度为400、500 ℃的大气条件下退火处理1 h.样品的表面形貌用原子力显微镜观测,光学和电学性质分别用分光光度计和van der Pauw方法测量.实验结果表明,相对于同等条件下制备的纯银薄膜,附加缓冲层大大提高了退火态薄膜的光电性质,改善了银薄膜的热稳定性.不同的缓冲层对银薄膜光电性质影响程度不同:在同一退火温度下,在可见光谱区域,Ag/Al薄膜的反射率大于Ag/Cu薄膜;Ag/Cu薄膜的电阻率ρ小于Ag/Al薄膜,且在退火温度为500 ℃时Ag/Cu薄膜的ρ最小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林永钟	福建师范大学物理与光电信息科技学院	13	97	4.0	9.0
2	林丽梅	福建师范大学物理与光电信息科技学院	28	139	8.0	11.0
3	赖发春	福建师范大学物理与光电信息科技学院	37	216	8.0	13.0
4	吕晶	福建师范大学物理与光电信息科技学院	1	1	1.0	1.0
5	林少颜	福建师范大学物理与光电信息科技学院	1	1	1.0	1.0
6	吴小春	福建师范大学物理与光电信息科技学院	2	2	1.0	1.0