缓冲层对AZO薄膜的性能影响

• 作者: 李长山 肖立娟 赵鹤平 郝嘉伟
• 来源期刊: 吉首大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: AZO薄膜 缓冲层 透过率 光电特性
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 物理与电气工程
• 页码范围: 31-34
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 1788字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2985.2013.03.007

摘要

采用射频磁控溅射法分别在ZnO缓冲层和Al2O3缓冲层上制备Al掺杂ZnO(AZO)薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计、霍尔测试仪等仪器对薄膜的光电特性进行表征.XRD分析结果表明,加入缓冲层的薄膜具有更好的c轴择优取向,薄膜的表面平整,结晶质量有所改善,薄膜在可见光范围内的平均透过率超过80％.引入ZnO缓冲层制备的AZO薄膜的最低电阻率为5.8×10-4 Ω·cm,导电性能得到明显提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵鹤平	吉首大学物理与机电工程学院	44	97	5.0	8.0
2	郝嘉伟	吉首大学物理与机电工程学院	5	9	2.0	3.0
3	肖立娟	吉首大学物理与机电工程学院	9	15	3.0	3.0
4	李长山	吉首大学物理与机电工程学院	6	12	3.0	3.0