无机缓冲层对柔性AZO薄膜光电及耐弯曲性能的影响

• 作者: 陆慧 陈成
• 来源期刊: 华东理工大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 柔性AZO薄膜 磁控溅射 无机缓冲层 光电性质 耐弯曲特性
• 年，卷（期）: 2020,（4）
• 所属期刊栏目: 物理
• 页码范围: 573-578
• 页数: 6页
• 分类号: O469
• 字数: 4265字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14135/j.cnki.1006-3080.20190403001

摘要

采用中频反应磁控溅射法,在柔性聚对苯二甲酸乙二酯(PET)衬底上分别以TiO2、SnO2和ZnO为缓冲层,室温沉积了铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜,研究了不同缓冲层对柔性AZO薄膜光电性质和耐弯曲特性的影响.研究结果表明,3种缓冲层均可以有效改善柔性AZO薄膜的电学性质,其中在SnO2缓冲层上,氩气和氧气流量比为5:1条件下生长的AZO薄膜光电性能提高最为显著,薄膜电阻率明显降低,可见光区域平均透过率超过85％.SnO2和ZnO缓冲层对于100～1000次内弯曲时的AZO薄膜电学性质的蜕化具有非常显著的限制作用,而TiO2和SnO2缓冲层则对100～1000次外弯曲时的薄膜的耐弯曲性能的改善效果最佳.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陆慧	华东理工大学物理系	20	99	6.0	9.0
2	陈成	华东理工大学物理系	4	0	0.0	0.0