缓冲层对AZO薄膜光电性能的影响

• 作者: 吴忆华 周媛 徐忠平 肖立娟 陈耀星 霍堡垒
• 来源期刊: 实验科学与技术
• 学科: 物理学
• 关键词: AZO薄膜 外延技术 缓冲层
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 实验技术
• 页码范围: 36-40
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3369字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-4550.2016.03.011

摘要

该文综述了利用外延技术在高失配度的基片上生长同质或者异质缓冲层能够提高AZO薄膜的质量.重点阐述不同工艺条件下制备缓冲层对AZO薄膜光电性能影响,介绍AZO薄膜发展近况,并指出目前AZO薄膜发展瓶颈,展望了其未来发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖立娟	吉首大学物理与机电工程学院	9	15	3.0	3.0
2	霍堡垒	吉首大学物理与机电工程学院	2	2	1.0	1.0
3	周媛	吉首大学物理与机电工程学院	2	2	1.0	1.0
4	吴忆华	吉首大学物理与机电工程学院	1	2	1.0	1.0
5	徐忠平	吉首大学物理与机电工程学院	1	2	1.0	1.0
6	陈耀星	吉首大学物理与机电工程学院	1	2	1.0	1.0