掺硼金刚石薄膜电极电化学特性的研究

• 作者: 孙志远 巩国樑 朱宁
• 来源期刊: 天津理工大学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 金刚石膜电极 循环伏安法 铁氰化钾
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 页码范围: 22-24
• 页数: 3页
• 分类号: O657
• 字数: 1982字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-095X.2008.02.007

摘要

通过循环伏安法研究了掺硼金刚石膜电极在KCL溶液中的电势窗口大小,结果表明电势窗口可达3.2 V.还研究了电极在铁氰化钾溶液中的电化学行为,结果表明电极的反应动力学主要受扩散过程控制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱宁	天津理工大学电子信息与通信工程学院	16	49	4.0	6.0
2	巩国樑	天津理工大学电子信息与通信工程学院	2	17	2.0	2.0
3	孙志远	天津理工大学电子信息与通信工程学院	2	17	2.0	2.0