响应面法优化毛云芝菌产漆酶的培养条件研究

• 作者: 刘学铭 肖更生 范文霞 蔡友华 陈卫东
• 来源期刊: 现代食品科技
• 关键词: 响应面法 毛云芝菌 漆酶 培养条件
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 153-156
• 页数: 4页
• 分类号: Q939.97
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-9078.2008.02.015

摘要

研究了影响毛云芝菌产漆酶的培养条件,通过单因素实验选取试验各因素的水平,根据Box-Benhnken试验设计原理,进行响应面回归分析,以漆酶酶活为响应值,确定了影响漆酶产量的各因素的水平,结合验证实验结果得到其最佳的培养条件为接种量8.2 %、装液量30.8%、摇床转速141 r/min.