SiO2薄膜折射率的准确拟合分析

• 作者: 姚建可 张伟丽 晋云霞 王胭脂 范正修 邵建达 黄建兵
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 SiO2折射率 包络法 准确拟合
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 760-763
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2080字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2008.05.026

摘要

精确的光学常数对于设计和制备高品质的光学薄膜非常重要,尤其是那些光学性能对折射率变化敏感的薄膜.SiO2是一种常用的低折射率材料,因与常用基底折射率相近使其准确拟合有一定难度.实验通过离子束溅射制备了SiO2单层膜.考虑测量时的误差和基底折射率的影响,采用透射率包络和反射率包络得到了SiO2的折射率,并用所得折射率进行反演来对这两种途径在实际测量拟合过程中的准确性进行比对.分析表明,剩余反射率在实际的测量过程中误差更小,直接用测量镀膜前后基片的剩余反射率值可以更简便更准确地得到SiO2的折射率,能达到10-2的精度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达		212	2131	21.0	29.0
2	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
3	黄建兵	中国科学院上海光学精密机械研究所	16	131	6.0	11.0
4	晋云霞	中国科学院上海光学精密机械研究所	15	122	7.0	11.0
5	张伟丽	中国科学院上海光学精密机械研究所	9	97	4.0	9.0
6	姚建可	中国科学院上海光学精密机械研究所	3	52	3.0	3.0
10	王胭脂	中国科学院上海光学精密机械研究所	6	23	2.0	4.0