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0.5 μm CMOS带隙基准电路设计
0.5 μm CMOS带隙基准电路设计
作者:
张明英
朱刘松
邢立冬
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
模拟电路
电源
温度/带隙基准
抑制比
CMOS工艺
摘要:
依据带隙基准原理,采用华润上华(CSMC)0.5 μm互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺,设计了一种用于总线低电压差分信号(Bus Low Voltage Differential Signal,简称BLVDS)的总线收发器带隙基准电路.该电路有较低的温度系数和较高的电源抑制比.Hspice仿真结果表明,在电源电压VDD=3.3 V,温度T=25℃时,输出基准电压Vrd=1.25 V.在温度范围为-45℃~+85℃时,输出电压的温度系数为20 pm/℃,电源电压的抑制比δ(PSRR)=-58.3 dB.
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文献信息
篇名
0.5 μm CMOS带隙基准电路设计
来源期刊
国外电子元器件
学科
工学
关键词
模拟电路
电源
温度/带隙基准
抑制比
CMOS工艺
年,卷(期)
2008,(12)
所属期刊栏目
新特器件应用
研究方向
页码范围
79-81
页数
3页
分类号
TN79
字数
1871字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张明英
西安外事学院信息工程学院
9
11
2.0
2.0
2
邢立冬
西安邮电学院计算机科学与技术系
17
52
4.0
5.0
3
朱刘松
中国人民解放军第323医院信息科
2
8
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电源
温度/带隙基准
抑制比
CMOS工艺
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
国外电子元器件
主办单位:
出版周期:
月刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
邮发代号:
创刊时间:
语种:
chi
出版文献量(篇)
2729
总下载数(次)
3
总被引数(次)
18906
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