场致电子发射薄膜材料研究评述

• 作者: 严辉 王如志 王波
• 来源期刊: 中国材料进展
• 学科: 工学
• 关键词: 场发射 薄膜材料 纳米薄膜
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 页码范围: 6-12
• 页数: 7页
• 分类号: TB383
• 字数: 8125字
• 语种: 中文

摘要

场致电子发射(场发射)薄膜材料由于在场发射平板显示器、电子源等诸多高性能真空微电子器件上具有广阔的应用前景,引起了人们广泛的关注与研究兴趣.综述了场发射薄膜材料的理论与实验研究进展,并评述了场致电子发射薄膜材料研究的瓶颈问题及未来发展方向与趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	严辉	北京工业大学材料科学与工程学院	178	1225	16.0	29.0
2	王波	北京工业大学材料科学与工程学院	80	638	11.0	23.0
3	王如志	北京工业大学材料科学与工程学院	48	136	6.0	10.0