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摘要:
本文通过介绍微电子器件制造的主要流程,概括了主要的微电子制造工艺技术以及这些技术的特点.在分析以往发展规律的基础上.结合当今微电子技术的现状,阐述了未来微电子发展的三个主要表现形式.
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文献信息
篇名 微电子制造技术及其发展
来源期刊 国防制造技术 学科 工学
关键词 徽电子 制造技术 砷化镓 氮化镓
年,卷(期) 2009,(5) 所属期刊栏目 论文
研究方向 页码范围 39-42
页数 分类号 TN1
字数 3202字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李拂晓 中国电子科技集团公司第五十五研究所 7 18 3.0 4.0
2 纪军 中国电子科技集团公司第五十五研究所 1 6 1.0 1.0
3 陈银龙 中国电子科技集团公司第五十五研究所 2 7 1.0 2.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
徽电子
制造技术
砷化镓
氮化镓
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
国防制造技术
季刊
1674-5574
11-5789/TH
大16开
北京市海淀区车道沟10号院
2009
chi
出版文献量(篇)
1032
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