集成电路刻蚀效果三维显示及其关键技术研究

• 作者: 万旺根 吴永亮 崔滨
• 来源期刊: 计算机工程与应用
• 学科: 工学
• 关键词: 刻蚀 三维 面连接
• 年，卷（期）: 2009,（23）
• 所属期刊栏目: 工程与应用
• 页码范围: 214-216,230
• 页数: 4页
• 分类号: TP391.9
• 字数: 2207字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3778/j.issn.1002-8331.2009.23.061

摘要

集成电路仿真是集成电路制造的重要辅助方法,刻蚀过程是集成电路制造的一个重要的过程.使用三角形面片对刻蚀过程进行建模,并推导出连接不同面的平面和曲面的计算公式.最后给出了刻蚀显示仿真结果.结果显示,刻蚀结果清晰,绘制速度快,占用资源少,可以满足实际的刻蚀显示要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	万旺根	上海大学通信与信息工程学院	132	819	15.0	22.0
2	崔滨	上海大学通信与信息工程学院	11	82	6.0	9.0
3	吴永亮	上海大学通信与信息工程学院	8	13	2.0	3.0