镀制工艺对TiO2光学膜层折射率影响研究

• 作者: 耿桂宏
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: TiO2膜层 折射率 镀制工艺
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 273-276
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 3051字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.03.10

摘要

研究分析了基底温度、沉积速率、氧气分压、离子束辅助沉积等工艺参数和条件对TiO2膜层折射率的影响.研究表明,随着基底温度升高,TiO2光学膜层折射率呈上升趋势;随着沉积速率提高,TiO2膜层折射率存在极值;采用离子束辅助沉积工艺,可以有效提高TiO2膜层折射率值,所制备的TiO2膜为非晶态结构,具有较高的折射率和较小的光学损耗.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	耿桂宏		61	105	5.0	7.0