波长小于10nm的软X射线多层膜制备技术

• 作者: 吴卫东 唐永建 邢丕峰 雷洁红
• 来源期刊: 材料导报：纳米与新材料专辑
• 学科: 物理学
• 关键词: 软X射线多层膜 表面粗糙度 制备技术
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 页码范围: 245-246
• 页数: 2页
• 分类号: O484

摘要

软X射线短波段区域（1～10nm）高反射率多层膜的制备对软X射线光学的研究具有十分重要的意义。该波段要求镀膜过程中能减小界面扩散，实现膜厚控制，从而严格限制了制备技术的应用。介绍了软X射线短波段多层膜的发展现状和制备技术，主要包括蒸发沉积、溅射沉积、脉冲激光沉积技术和激光分子束外延，对这些方法进行了比较并提出了今后的研究方向。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐永建		281	2334	24.0	31.0
2	吴卫东		140	1087	18.0	26.0
3	邢丕峰		59	303	9.0	14.0
4	雷洁红		13	51	4.0	6.0