氦压对类金刚石薄膜结构和光学性质的影响

• 作者: 丁旭丽 于业梅 徐言东 李新坤 李清山
• 来源期刊: 物理实验
• 学科: 工学
• 关键词: 类金刚石薄膜 脉冲激光沉积 氦压
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 实验与应用
• 页码范围: 11-15
• 页数: 5页
• 分类号: O484|TN304.18
• 字数: 3461字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-4642.2009.04.003

摘要

使用脉冲激光沉积技术在不同氦压下制备了系列无氢类金刚石薄膜,测量了样品的Raman光谱、光吸收光谱和光致发光光谱,采用原子力显微镜测试了薄膜的表面形貌,研究了薄膜的微结构和光学性质与制备条件的依赖关系. 结果表明,该薄膜是由sp2和sp3杂化碳原子组成的非晶碳膜. 薄膜的光学带隙在1.45～1.78 eV. 薄膜的发光在可见光区呈宽带结构,氦压能够对类金刚石薄膜的结构和光学性质产生较大影响. 当氦压从0.05 Pa升高至15 Pa时,sp2团簇变大,带尾态增多,从而导致薄膜的发光增强,光学带隙变窄,发光峰位红移. AFM 形貌表明随着氦压的升高,薄膜的表面由致密光滑变得粗糙,并且许多大小不均匀的球状颗粒出现在薄膜表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李清山	曲阜师范大学物理工程学院	57	249	9.0	12.0
5	徐言东	曲阜师范大学物理工程学院	5	17	3.0	4.0
6	李新坤	曲阜师范大学物理工程学院	5	19	3.0	4.0
7	于业梅	曲阜师范大学物理工程学院	3	13	2.0	3.0
8	丁旭丽	曲阜师范大学物理工程学院	2	10	2.0	2.0