SiO2缓冲层对柔性ITO薄膜特性的影响

• 作者: 喻志农 李玉琼 相龙锋 薛唯
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 离子辅助蒸发技术 ITO薄膜 二氧化硅缓冲层
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 443-446
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 3258字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185X.2009.03.016

摘要

利用离子辅助蒸发技术在PET塑料衬底上制备柔性ITO薄膜,重点分析了柔性ITO薄膜在增加SiO2缓冲层前后的性能变化.采用X射线衍射、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测量仪、NT100光学轮廓仪等测试手段对薄膜样品进行表征.实验结果表明:增加缓冲层后,柔性ITO薄膜的X射线衍射特征峰的强度增加;薄膜电阻率减小为1.21×10-3Ω·cm;可见光峰值透过率为85%左右;表面相对光滑;薄膜电阻在一定的弯曲状态保持一定的稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	喻志农		31	127	5.0	10.0
2	薛唯		38	223	8.0	13.0
3	李玉琼		4	12	2.0	3.0
4	相龙锋		2	13	2.0	2.0