氮分压对钕铁硼表面直流磁控溅射沉积AlN/Al防护涂层结构和性能的影响

• 作者: 冒守栋 孙科沸 宋振纶 李金龙
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: NdFeB AlN/Al膜 结构 腐蚀性能
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 80-83
• 分类号: TG174.444
• 字数: 1274字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9289.2010.03.017

摘要

采用直流磁控溅射在钕铁硼表面沉积AlN/Al双层防护薄膜来提高磁体的耐腐蚀性能.先在基体表面沉积纯Al薄膜,然后沉积外层AlN薄膜.沉积AlN薄膜时,改变氮气分压,研究氮分压对薄膜结构和耐腐蚀性能的影响.结果显示,AlN纳米颗粒形成于内层Al结晶体表面.氮氩分压比为1:1时,钕铁硼表面形成了更致密的AlN/Al薄膜.膜基界面存在元素的互扩散和冶金结合.氮氩分压为1:1的AlN/Al防护薄膜具有最好的耐腐蚀性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李金龙	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	61	374	10.0	17.0
2	宋振纶	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	17	104	5.0	10.0
3	冒守栋	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	5	35	3.0	5.0
4	孙科沸	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	1	21	1.0	1.0