脉冲激光沉积掺W类金刚石膜的性能

• 作者: 吴卫东 唐永建 李盛印 王海平 王雪敏 白黎 陈松林
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光气相沉积 类金刚石薄膜 硬度
• 年，卷（期）: 2010,（7）
• 页码范围: 1251-1255
• 分类号: O484.1|TB43
• 字数: 3007字
• 语种: 中文

摘要

采用氟化氪(KrF)脉冲准分子激光烧蚀沉积(PLD)技术,在硅基体表面制备不同掺W时间的类金刚石薄膜(W-DLC).利用AFM、XRD、Raman、纳米压痕等手段分析和研究薄膜的表面形貌、结构以及部分性能.结果表明:W掺入后形成了α-W2C和WC相,并且没有明显改变薄膜中sp2和sp3键的含量,薄膜的表面粗糙度基本不受W掺入时间的影响,残余应力降低约1个数量级(二十几个GPa下降到几个GPa),硬度和弹性模量随W掺入时间的增加而逐渐降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐永建		281	2334	24.0	31.0
2	吴卫东		140	1087	18.0	26.0
3	白黎		5	19	2.0	4.0
4	王雪敏		16	26	4.0	5.0
5	陈松林		5	29	3.0	5.0
6	王海平		6	91	4.0	6.0
7	李盛印		2	9	2.0	2.0