金属离子掺杂的TiO2-SiO2增透膜的制备及性能

• 作者: 康浩 潘静 胡晓云 郑娜 郭庆磊
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 增透膜 sol-gel法 金属离子掺杂 TiO2-SiO2薄膜
• 年，卷（期）: 2010,（9）
• 页码范围: 13-15
• 分类号: O484
• 字数: 2582字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2010.09.004

摘要

为了得到高增透的TiO2-SiO2薄膜,采用sol-gel法制备了金属离子掺杂的TiO2-SiO2薄膜,并对其透射光谱和薄膜厚度进行了表征,研究了退火温度及不同金属离子掺杂(Al3+、Fe3+和Zn2+)对TiO2-SiO2薄膜增透性能的影响.结果表明:Al3+、Fe3+可提高薄膜在可见光波段的增透性,其中,掺杂Al3+的摩尔分数为0.4%的薄膜,未经退火处理的增透性能最佳(透射率可达98%).掺杂Fe3+使薄膜的截止波长红移量最大,约为14 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡晓云	西北大学物理学系	61	437	12.0	16.0
2	潘静	西北大学物理学系	9	52	6.0	7.0
3	郑娜	西北大学物理学系	3	30	2.0	3.0
4	康浩	西北大学物理学系	2	10	2.0	2.0
5	郭庆磊	西北大学物理学系	3	14	2.0	3.0