大面积光学级金刚石自支撑膜制备、性能及其在高技术领域应用前景

• 作者: 吕反修
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学级金刚石膜 制备和加工 物理化学性能 应用前景
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 所属期刊栏目: 工程前沿
• 页码范围: 1-9,13
• 分类号: O484
• 字数: 8345字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9289.2010.03.001

摘要

大面积光学级金刚石自支撑膜的制备和加工是近年来在CVD金刚石研究领域的最重要的技术进展之一;在军事和民用光学领域有非常重要的应用前景.综述了北京科技大学近年来在CVD金刚石膜光学应用领域的研究进展;给出了采用高功率直流电弧等离子体喷射(DC Arc Plasma Jet) CVD工艺制备大面积光学级金刚石自支撑膜的研究结果;对所制备的光学级金刚石自支撑膜的光学、力学(机械)、热学、微波介电性能、抗氧化、抗热震、抗砂蚀和抗激光损伤等方面的最新研究结果,及其在高新技术领域中的应用前景及前沿问题进行了讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕反修	北京科技大学材料科学与工程学院	151	1208	18.0	24.0