聚焦离子束工作原理及刻蚀性能研究

• 作者: 贾京英 颜秀文
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 聚焦离子束 刻蚀速率 离子柱 微悬梁
• 年，卷（期）: 2010,（9）
• 页码范围: 14-16,32
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2470字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2010.09.003

摘要

综述了聚焦离子柬系统的结构和基本原理,介绍了国产化聚焦离子束系统的结构与特点.基于国产化聚焦离子束系统进行了硅材料刻蚀实验,研究了硅材料刻蚀速率与离子束流大小的关系,建立了刻蚀速率与束流大小的关系方程,进行了硅悬梁微结构刻蚀加工.结果表明,国产聚焦离子束系统可满足硅微悬梁结构加工的应用需要.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	颜秀文	中国电子科技集团公司第四十八研究所	12	53	4.0	7.0
2	贾京英	中国电子科技集团公司第四十八研究所	10	25	3.0	4.0