基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
采用离子束溅射的方法在玻璃衬底上制备CdS多晶薄膜,研究了沉积过程中基底温度(100~400℃)与薄膜厚度(35~200nm)对其微结构与光电性能的影响.结果表明,不同基底温度下制备的CdS薄膜均属于六方相多晶结构且具有(002)择优取向生长特征;随着基底温度的升高,(002)特征衍射峰强度增加,半高宽变小相应薄膜结晶度增大,有利于颗粒的生长;分析CdS薄膜的光谱图线可知,薄膜在可见光区平均透射率高于75%,光学带隙值随着基底温度升高而增大(2.33~2.42eV)且薄膜电阻高达109Ω;在基底温度为400℃条件下制备不同厚度的CdS薄膜,发现(50~100nm)较薄的CdS薄膜具有较为明显的六方相CdS多晶薄膜结构、较优光学性能和高电阻值,满足CIS基太阳电池中缓冲层材料的基本要求.
推荐文章
氧化物激光薄膜的离子束溅射制备技术
离子束溅射
厚度均匀性
激光高反射薄膜
增透膜
热处理对离子束溅射Ni-Cr薄膜性能和结构的影响
离子束溅射技术
纳米Ni-Cr合金薄膜
快速热处理工艺
离子束溅射与射频溅射制备的ZnO薄膜的特性分析
离子束沉积
射频磁控溅射
结构
形貌
离子束溅射制备Nb2O5光学薄膜的特性研究
Nb2O5薄膜
离子束溅射
光学特性
应力
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 离子束溅射制备CdS多晶薄膜及性能研究
来源期刊 功能材料 学科 工学
关键词 CdS薄膜 离子束溅射 微结构 光电性能
年,卷(期) 2010,(z2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 239-242
页数 分类号 TK514|TB43
字数 2955字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 范平 深圳大学物理科学与技术学院薄膜物理与应用研究所 14 136 8.0 11.0
2 梁广兴 深圳大学物理科学与技术学院薄膜物理与应用研究所 4 31 2.0 4.0
3 张东平 深圳大学物理科学与技术学院薄膜物理与应用研究所 7 53 5.0 7.0
4 蔡兴民 深圳大学物理科学与技术学院薄膜物理与应用研究所 4 31 2.0 4.0
5 池京容 深圳大学物理科学与技术学院薄膜物理与应用研究所 1 2 1.0 1.0
6 李盛艺 深圳大学物理科学与技术学院薄膜物理与应用研究所 1 2 1.0 1.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (8)
共引文献  (4)
参考文献  (4)
节点文献
引证文献  (2)
同被引文献  (6)
二级引证文献  (3)
2000(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2001(2)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(1)
2003(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2004(3)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(2)
2006(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2007(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
2009(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2010(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2013(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2014(2)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(1)
2015(2)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(2)
研究主题发展历程
节点文献
CdS薄膜
离子束溅射
微结构
光电性能
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
功能材料
月刊
1001-9731
50-1099/TH
16开
重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
78-6
1970
chi
出版文献量(篇)
12427
总下载数(次)
30
总被引数(次)
91048
论文1v1指导