脉冲激光沉积类金刚石膜时碳发射谱的时间分辨特性

• 作者: 刘毅 张磊 林晓东 胡居广
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 光谱学 类金刚石薄膜 脉冲激光沉积 发射光谱 时间分辨测量
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 所属期刊栏目: 测量技术
• 页码范围: 815-818
• 页数: 4页
• 分类号: TN249|O433.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL20103703.0815

摘要

针对脉冲激光沉积(PLD)薄膜装置,建立了时间分辨等离子体发射光谱测量系统,在沉积类金刚石(DLO薄膜时,通过对CⅡ(426.7nm)和CⅢ(229.7nm)的发射谱测量发现,当脉冲激光轰击石墨靶材时,C发射谱强度均随时间变化,表现为由强变弱的时间变化过程,并且与靶材的表面状况有很强的相关性.实验过程中保持激光的脉冲频率和单脉冲能量不变,在石墨靶固定时,碳发射谱强度随时间呈快速下降趋势,当石墨靶旋转时,碳发射谱强度变化较为缓慢.实验发现,CⅢ和CⅡ的发射谱强度的比值随时间逐渐增大.