氮化镓材料中深能级中心光离化谱测试与分析

• 作者: 尹志军 李素云 王莹
• 来源期刊: 光谱学与光谱分析
• 学科: 物理学
• 关键词: 光离化谱 氮化镓 深能级中心 晶格弛豫
• 年，卷（期）: 2010,（8）
• 页码范围: 2219-2222
• 分类号: O472+.8
• 字数: 3639字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3964/j.issn.1000-0593(2010)08-2219-04

摘要

设计了一种可用于测试氮化镓材料深能级中心光离化截面的光谱测试方法,该方法建立在使用PID技术控制氮化镓样品中光电流变化为恒定值的基础上,结合光电流测试、霍尔效应、光强度测试等实验手段给出深能级中心光离化截面的实际值.使用该方法得到的光离化截而测试误差同光电探测器对不同入射光子的响应能力有关,光离化截面测试误差随入射光子能量增加不断增大,在入射光子能量较高的情况下,光离化截面测试误差约为8%.对氮化镓材料深能级中心光离化谱分析发现,即使在入射光子能量小于深能级同导带之间能量差2.85 eV的情况下,深能级中心仍能在一定程度上吸收该能餐的入射光子,表明深能级中心缺陷同周围晶格产生一定程度的耦合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王莹	安徽大学电子科学与技术学院	31	59	5.0	6.0
2	尹志军	中国科学院固体物理研究所材料物理重点实验室	4	5	2.0	2.0
3	李素云	安徽大学电子科学与技术学院	6	6	1.0	2.0