小型化热丝CVD金刚石膜沉积设备的研究与开发

• 作者: 卢文壮 吴小军 左敦稳 徐锋 林欢庆
• 来源期刊: 机械制造与自动化
• 学科: 工学
• 关键词: CVD金刚石膜 小型化 热丝化学气相沉积 摆动衬底
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 机械制造与研究
• 页码范围: 35-38,79
• 分类号: TH12
• 字数: 1872字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-5276.2010.02.008

摘要

对传统HFCVD金刚石膜沉积设备进行小型化改进,分析了传统沉积设备在真空系统和衬底机构结构上的不足之处;介绍了小型化CVD金刚石膜沉积设备的系统构成;详细描述了该小型化设备的真空系统和衬底摆动机构.该系统具有均匀的表面温度场和很高的运行稳定性,可以用于纳米金刚石薄膜和金刚石厚膜的沉积,制备的纳米金刚石薄膜晶粒大小基本上都在200nm以下,纳米硬度为(450～700)GPa;沉积的金刚石厚膜直径达93mm,晶粒完整均匀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢文壮	南京航空航天大学机电学院	94	520	12.0	17.0
2	左敦稳	南京航空航天大学机电学院	510	3780	26.0	32.0
3	徐锋	南京航空航天大学机电学院	85	541	13.0	18.0
4	吴小军	南京航空航天大学机电学院	5	26	3.0	5.0
5	林欢庆	南京航空航天大学机电学院	4	6	2.0	2.0