高功率脉冲非平衡磁控溅射制备CrNx薄膜及其性能研究

• 作者: 刘冰冰 牟宗信 牟晓东 王春 臧海荣 董闯
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 社会科学
• 关键词: 薄膜 气相沉积 脉冲功率 CrNx 硬度
• 年，卷（期）: 2010,（12）
• 页码范围: 951-954
• 页数: 4页
• 分类号: G31|G321.6|G321.5
• 字数: 2108字
• 语种: 中文

摘要

高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)溅射粒子离化率高,可沉积致密、高性能薄膜,作为一种新技术在国外广泛研究.本文用高功率脉冲非平衡磁控溅射技术(HPPUMS)制备一系列CrNx薄膜,采用原子力显微镜(AFM)和X射线衍射(XRD)对不同厚度的薄膜表面形貌、微观结构进行了分析,测定了薄膜的厚度和硬度,研究了薄膜的摩擦学性能,并与中频磁控溅射(MFMS)技术制备的CrNx进行比较.结果表明,使用高功率脉冲非平衡磁控溅射技术(HPPUMS)能制备致密的CrNx薄膜.薄膜有较好的综合性能,有较高硬度、较高结合强度和低摩擦系数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	牟宗信	三束材料改性教育部重点实验室大连理工大学物理与光电工程学院	3	14	2.0	3.0
2	牟晓东	三束材料改性教育部重点实验室大连理工大学物理与光电工程学院	2	2	1.0	1.0
3	王春	三束材料改性教育部重点实验室大连理工大学物理与光电工程学院	1	2	1.0	1.0
4	臧海荣	三束材料改性教育部重点实验室大连理工大学物理与光电工程学院	1	2	1.0	1.0
5	刘冰冰	三束材料改性教育部重点实验室大连理工大学物理与光电工程学院	1	2	1.0	1.0