沉积温度及其变化对金刚石膜内黑色缺陷产生过程的影响

• 作者: 刘政 吕反修 唐伟忠 姜春生 李晓静 郭世斌 郭辉
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 黑色缺陷 孪晶 电子背散射衍射
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 1-6
• 页数: 6页
• 分类号: TB383
• 语种: 中文

摘要

用高功率直流电弧等离子体喷射方法研究金刚石膜沉积温度稳定性对膜中黑色缺陷产生的影响.结果表明,在温度稳定条件下制备的金刚石膜中,黑色缺陷的密度较低;当沉积温度大幅度变化时,在膜中产生大量黑色缺陷.形成大量黑色缺陷的原因是:沉积温度变化时,在金刚石晶粒的表面形成贯穿型孪晶,而在随后的生长过程中,这些孪晶的长大将抑制金刚石膜局部生长环境中活化的反应气体与其下晶界位置的金刚石组织接触,导致其生长缓慢并保留在金刚石膜中,从而形成大量黑色缺陷.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕反修	北京科技大学材料科学与工程学院	151	1208	18.0	24.0
2	刘政	北京科技大学材料科学与工程学院	17	139	7.0	11.0
3	唐伟忠	北京科技大学材料科学与工程学院	106	860	16.0	21.0
4	郭辉		12	14	2.0	3.0
5	郭世斌	北京科技大学材料科学与工程学院	8	31	3.0	5.0
6	姜春生	北京科技大学材料科学与工程学院	8	22	3.0	4.0
7	李晓静	北京科技大学材料科学与工程学院	54	299	10.0	13.0